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Erik Loopstra und Vadim Banine erhalten Europäischen Erfinderpreis für verbessertes Verfahren zur Mikrochip-Herstellung

07.06.2018

in Pressemitteilungen

Niederländische Erfinder gewinnen den Publikumspreis des Europäischen Erfinderpreises 2018 mit den meisten Stimmen im Online-Voting
Preisträger wurden vom Europäischen Patentamt während eines Festakts in Paris, Saint-Germain-en-Laye, bekanntgegeben

EPA-Präsident Benoît Battistelli: „Die Wahl von Erik Loopstra und Vadim Banine durch das Publikum würdigt ihren Beitrag zur Gestaltung der Zukunft der Computerchip-Herstellung."

Paris, Saint-Germain-en-Laye/München, 7. Juni 2018 - Ihr Verfahren, geometrische Muster auf Silizium-Wafer zu ätzen, wird dabei helfen, die nächste Generation von Computerchips für das digitale Zeitalter einzuführen: Der niederländische Erfinder Erik Loopstra und der niederländisch-russische Erfinder Vadim Banine wurden mit dem Publikumspreis des Europäischen Erfinderpreises 2018 ausgezeichnet. An der Preisverleihung nahmen rund 600 Gäste aus Politik, Wirtschaft, geistigem Eigentum und Wissenschaft teil. Die beiden Erfinder und ihre Teams beim niederländischen Hersteller von Halbleiterkomponenten ASML und dem Optikunternehmen ZEISS entwickelten ein EUVL-Produktionssystem zur Herstellung kleinerer, schnellerer und leistungsstärkerer Halbleiter.

„Die Wahl von Erik Loopstra und Vadim Banine durch das Publikum würdigt ihren Beitrag zur Gestaltung der Zukunft der Computerchip-Herstellung", sagte EPA-Präsident Benoît Battistelli. „Kleinere, leistungsfähigere Mikrochips werden sicherlich die Entwicklung in Bereichen wie Unterhaltungselektronik, autonomes Fahren und künstliche Intelligenz noch weiter vorantreiben. Dies verdeutlicht den großen Einfluss europäischer Fortschritte in der Chiptechnologie auf die digitale Wirtschaft."

Die EUVL Halbleiter-Herstellungstechnik ist Publikumsliebling

Die Öffentlichkeit war vom 24. April bis zum 3. Juni aufgerufen, online für ihren Favoriten unter den Erfindern und Erfinderteams der 15 Finalisten des Europäischen Erfinderpreises 2018 abzustimmen. Loopstra und Banine erhielten die meisten unter den Tausenden online abgegebenen Stimmen.

In den Kategorien „Industrie", „Kleine und mittlere Unternehmen (KMU)", „Forschung", „Nicht-EPO-Staaten" und „Lebenswerk" wurden ebenfalls Gewinner gekürt: Eine internationale Jury wählte die Preisträger aus mehr als 500 Erfindern und Erfinderteams aus, die für den diesjährigen Award vorgeschlagen worden waren.

Der Europäische Erfinderpreis wird jährlich vom EPA verliehen, um herausragende Erfinder aus Europa und der ganzen Welt zu würdigen, die einen maßgeblichen Beitrag zu gesellschaftlicher Entwicklung, technologischem Fortschritt und wirtschaftlichem Wachstum geleistet haben.

Über die Grenzen der Physik hinaus

Immer kleinere, leistungsfähigere Chips sind entscheidend für weitere technologische Entwicklungen des digitalen Zeitalters. Nach einer Prognose des US-amerikanischen Ingenieurs und Intel-Mitbegründers Gordon Moore hat sich die Rechenleistung seit den 1960er Jahren etwa alle zwei Jahre verdoppelt. Herkömmliche Verfahren zur Chipherstellung sind dabei an ihre physikalischen und wirtschaftlichen Grenzen gestoßen. Das signalisierte eine mögliche Abkehr vom „Mooreschen Gesetz" und eine Verlangsamung der Technologien in zahlreichen verwandten Bereichen. Um das „Mooresche Gesetz" zukunftsfähig zu machen, haben Loopstra, Banine und ihre Teams ein EUVL-Produktionssystem entwickelt, das die Wellenlänge der Strahlung, die zum Ätzen von Chip-Details verwendet wird, um den Faktor 14 reduziert.

„Mit einer Wellenlänge, die fast so kurz ist wie die von Röntgenstrahlen, werden auf dem Chip nur fünf Nanometer große Strukturen abgebildet, also kaum 20 Siliziumatome", erklärt Vadim Banine. „Mit dieser Technologie haben wir fast die Grenzen der konventionellen Physik erreicht."

Das EUVL-System nutzt einen Hochleistungslaser, um winzige Tropfen Zinn zu Plasma zu erwärmen und extreme ultraviolette Strahlung zu erzeugen. Diese wird dann durch hochpräzise Optiken auf das Silizium-Substrat eines Chips geleitet, um winzige Chip-Details zu ätzen. „Optiken bestehen nicht mehr länger aus Linsen, sondern aus dem weltweit glattesten Spiegelsystem", sagt Erik Loopstra. Würde einer der Spiegel des EUVL-Systems auf die Größe Deutschlands oder 1 000 km Durchmesser erweitert, wäre die größte Unebenheit kleiner als die Breite eines menschlichen Haares, so der Physiker. Neben fortschrittlichen Optiken und einem Hochleistungslaser verfügt das EUVL-System über eine von den Erfindern und ihrem Team entwickelte Vakuumumgebung, die die Kontamination - verursacht durch Partikel, die 1 000 Mal dünner sind als menschliches Haar - auf nahezu Null reduziert.

Die beiden Erfinder danken ihren jeweiligen Teams bei ASML und Zeiss für die mehr als zwei Jahrzehnte andauernde Unterstützung bei der Arbeit an einem EUVL-System, das für die Herstellung von Mikroprozessoren-Chips im großen Maßstab geeignet ist. Sie verweisen auch auf die Rolle von Patenten, die den wichtigen Schutz des geistigen Eigentums gesichert haben.

„Nur wenn du deine Ideen durch Patente schützt, verfügst du über vollkommene Handlungsfreiheit", sagt Loopstra. „Auch wenn jemand anders später die gleiche Idee hat, kannst du an deiner eigenen Erfindung weiterarbeiten."