https://www.epo.org/de/node/von-der-anmeldung-bis-zur-10

Kann ich in Korea zugleich ein Patent und ein Gebrauchsmuster anmelden?

Nein, das ist nicht mehr möglich. Vor dem 1. Oktober 2006 konnte man Patent- und Gebrauchsmusteranmeldungen parallel einreichen, um frühzeitig Schutz für eine Erfindung zu erlangen. Das eingetragene Gebrauchsmuster musste bei Erteilung des Patents zurückgenommen werden. Dieses System wurde abgeschafft.

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