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Erik Loopstra et Vadim Banine reçoivent le Prix de l’inventeur européen pour avoir révolutionner la fabrication des puces électroniques

07.06.2018

in Communiqués de presse

Le Prix du public a été décerné aux inventeurs néerlandais, qui ont obtenu le plus grand nombre de voix lors du vote en ligne.
Les lauréats ont été annoncés par l'Office européen des brevets (OEB) lors d'une cérémonie à Saint-Germain-en-Laye.
Benoît Battistelli, Président de l'OEB : «Le vote du public pour Erik Loopstra et Vadim Banine honore leur contribution au développement des puces de prochaine génération».

Paris, Saint-Germain-en-Laye/Munich, 7 juin 2018 - Leur méthode de gravure de motifs géométriques sur des plaquettes de silicium aidera à fabriquer les prochaines générations de puces électroniques à l'ère numérique : l'ingénieur néerlandais Erik Loopstra et le physicien néerlando-russe Vadim Banine ont reçu le Prix du public dans le cadre du Prix de l'inventeur européen 2018, lors d'une cérémonie qui s'est tenue aujourd'hui à Saint-Germain-en-Laye, en présence de quelque 600 invités issus du monde de la politique, de l'économie, de la propriété intellectuelle et des sciences. Les deux inventeurs et leurs équipes de l'équipementier néerlandais ASML et de la société d'optique ZEISS ont développé une méthode de production utilisant la lithographie par ultraviolets extrêmes (EUVL) pour fabriquer des puces plus petites, plus rapides et plus puissantes.

« Le vote du public pour Erik Loopstra et Vadim Banine honore leur contribution au développement des puces de prochaine génération », a déclaré le Président de l'OEB, Benoît Battistelli. « Plus petites, plus puissantes, ces puces vont sans doute révolutionner de nombreux domaines, de l'électronique grand public à la conduite autonome, en passant par l'intelligence artificielle. Nous pouvons observer comment les avancées européennes dans le domaine de la technologie des puces peuvent avoir un impact considérable sur l'économie numérique ».

La technique de fabrication de puces par lasers plébiscitée par le public

Loopstra et Banine ont reçu le plus grand nombre de votes parmi les milliers de votes exprimés en ligne par le public entre le 24 avril et le 3 juin, période pendant laquelle le public pu voter en ligne pour son inventeur préféré parmi les 15 finalistes du Prix de l'inventeur européen 2018.

Cinq autres lauréats ont été récompensés dans les catégories « Industrie », « Petites et moyennes entreprises (PME) », « Recherche », « Pays non membres de l'OEB » et « Œuvre d'une vie », distingués par un jury international parmi plus de 500 inventeurs proposés pour le Prix de cette année.

Le Prix de l'inventeur européen est décerné chaque année par l'OEB afin de récompenser des inventeurs exceptionnels d'Europe et du monde entier ayant contribué de manière remarquable au développement social, au progrès technologique et à la croissance économique.

Repousser les limites de la physique

Des puces toujours plus petites et plus puissantes sont essentielles à l'évolution technologique de l'ère numérique. Selon une prédiction faite par l'ingénieur américain et co-fondateur d'Intel Corporation, le docteur Gordon Moore, la capacité des processeurs a quasiment doublé tous les deux ans depuis les années 1960. Cependant, les méthodes conventionnelles de fabrication des puces ont atteint leurs limites techniques et économiques, ce qui laisse envisager une possible limite de la loi de Moore et un ralentissement des technologies dans de nombreux domaines. Dans le but de prolonger la loi de Moore, Erik Loopstra, Vadim Banine et leurs équipes ont mis au point une méthode de production utilisant la lithographie par ultraviolets extrêmes (EUVL) qui réduit par un facteur de 14 la longueur d'onde du rayonnement utilisé permettant de graver les détails des puces.

« Avec une longueur d'onde presque aussi infime que les rayons X, nous pouvons imaginer des motifs sur la puce de seulement 5 nanomètres, composée d'à peine 20 atomes de silicium », a expliqué Vadim Banine. « Avec cette technologie, nous avons presque atteint les limites de la physique conventionnelle ».

Le système EUVL utilise des lasers à haute énergie pour chauffer de minuscules gouttes et les transformer en plasma et générer un rayonnement ultraviolet extrême qui est ensuite dirigé, à l'aide d'un système optique de haute précision, sur la couche de silicium d'une puce pour y graver de minuscules détails. « L'optique n'est plus composée de lentilles mais d'un système de miroirs les plus lisses au monde », a déclaré Erik Loopstra. Pour se rendre compte de sa précision, il souligne que si l'un des miroirs du système EUVL était de la taille de l'Allemagne, soit 1 000 km de large, la déviation maximum serait inférieure à la largeur d'un cheveu humain. En plus d'une optique avancée et d'un laser à haute énergie, le système EUVL est doté d'un environnement sous vide développé par les inventeurs et leurs équipes qui réduit à presque zéro la contamination - causée par des particules de matières 1 000 fois plus fines que les cheveux humains.

Les deux inventeurs ont bénéficié du soutien de leurs équipes respectives chez ASML et Zeiss qui les ont aidés à mener à bien le travail de plus de deux décennies afin de rendre un système EUVL prêt pour la production à grande échelle de puces pour microprocesseurs. Ils soulignent également le rôle que les brevets ont joué pour assurer une importante protection de la propriété intellectuelle.

« Ce n'est que si vous protégez vos idées par des brevets que vous pouvez avoir la liberté d'exploitation », a déclaré Erik Loopstra. « Ainsi, même si quelqu'un d'autre a la même idée plus tard, vous pouvez continuer à travailler sur votre propre invention ».