Erik Loopstra (NL) und Vadim Banine (NL/RU)

Erik Loopstra (NL) and Vadim Banine (NL/RU)

Extrem UV-Lithographie für kleinere und schnellere Mikrochips

Dieses niederländische Team hat die Lithografie mit Extrem-Ultraviolett-Strahlung (EUVL) zur Herstellung schnellerer und leistungsstärkerer Mikrochips entwickelt.

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