T 1034/01 vom 29.01.2004
- Europäischer Rechtsprechungsidentifikator
- ECLI:EP:BA:2004:T103401.20040129
- Datum der Entscheidung
- 29. Januar 2004
- Aktenzeichen
- T 1034/01
- Antrag auf Überprüfung von
- -
- Anmeldenummer
- 93119391.6
- IPC-Klasse
- H01J 37/32
- Verfahrenssprache
- Englisch
- Verteilung
- An die Kammervorsitzenden verteilt (C)
- Download
- Entscheidung auf Englisch
- Amtsblattfassungen
- Keine AB-Links gefunden
- Weitere Entscheidungen für diese Akte
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- Zusammenfassungen für diese Entscheidung
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- Bezeichnung der Anmeldung
- Process and electromagnetically coupled planar plasma apparatus for etching oxides
- Name des Antragstellers
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Name des Einsprechenden
- Institute of Technological Information, Inc.
- Kammer
- 3.4.03
- Leitsatz
- -
- Relevante Rechtsnormen
- European Patent Convention Art 114 1973European Patent Convention Art 54 1973European Patent Convention Art 56 1973European Patent Convention Art 87 1973
- Schlagwörter
- Abuse of procedure (no)
Lack of inventive step of one alternative of an independent claim renders the whole claim not allowable (cf. Reasons for
the Decision, item 6.6)
Inventive step (denied) - Orientierungssatz
- -
- Zitierende Akten
- -
ORDER
For these reasons it is decided that:
1. The decision under appeal is set aside.
2. The patent is revoked.