T 0874/02 (Fluorine-doped silicon oxide layer/APPLIED MATERIALS) vom 30.09.2004
- Europäischer Rechtsprechungsidentifikator
- ECLI:EP:BA:2004:T087402.20040930
- Datum der Entscheidung
- 30. September 2004
- Aktenzeichen
- T 0874/02
- Antrag auf Überprüfung von
- -
- Anmeldenummer
- 98107039.4
- IPC-Klasse
- H01L 21/316
- Verfahrenssprache
- Englisch
- Verteilung
- An die Kammervorsitzenden verteilt (C)
- Download
- Entscheidung auf Englisch
- Amtsblattfassungen
- Keine AB-Links gefunden
- Weitere Entscheidungen für diese Akte
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- Zusammenfassungen für diese Entscheidung
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- Bezeichnung der Anmeldung
- Process for depositing a Halogen-doped SiO2 layer
- Name des Antragstellers
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Name des Einsprechenden
- -
- Kammer
- 3.4.03
- Leitsatz
- -
- Relevante Rechtsnormen
- European Patent Convention Art 52(2)(c) 1973European Patent Convention Art 56 1973
- Schlagwörter
- Inventive step (yes) - after amendments
- Orientierungssatz
- -
- Zitierte Akten
- T 1173/97
- Zitierende Akten
- -
ORDER
For these reasons it is decided that:
1. The decision under appeal is set aside.
2. The case is remitted to the department of the first instance with the order to grant a patent on the basis of the following documents:
Claims 1 to 14 as filed with the letter dated 16. September 2004;
Description pages 1 to 22 filed with the statement of the grounds of appeal;
Drawings Sheets 1/21 to 21/21 as originally filed