T 0509/03 (Plasma etching/Texas Instruments) vom 06.04.2005
- Europäischer Rechtsprechungsidentifikator
- ECLI:EP:BA:2005:T050903.20050406
- Datum der Entscheidung
- 6. April 2005
- Aktenzeichen
- T 0509/03
- Online am
- 19. April 2005
- Antrag auf Überprüfung von
- -
- Anmeldenummer
- 97308454.4
- IPC-Klasse
- H01L 21/321
- Verfahrenssprache
- Englisch
- Verteilung
- An die Kammervorsitzenden verteilt (C)
- Download
- Entscheidung auf Englisch
- Amtsblattfassungen
- Keine AB-Links gefunden
- Weitere Entscheidungen für diese Akte
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- Zusammenfassungen für diese Entscheidung
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- Bezeichnung der Anmeldung
- Plasma etching of a metal layer comprising copper
- Name des Antragstellers
- Texas Instruments Incorporated
- Name des Einsprechenden
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- Kammer
- 3.4.03
- Leitsatz
- -
- Relevante Rechtsnormen
- European Patent Convention Art 56 1973
- Schlagwörter
- Inventive step (no)
- Orientierungssatz
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- Zitierte Akten
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- Zitierende Akten
- -
ORDER
For these reasons it is decided that:
The appeal is dismissed.