T 0935/03 vom 15.09.2004
- Europäischer Rechtsprechungsidentifikator
- ECLI:EP:BA:2004:T093503.20040915
- Datum der Entscheidung
- 15. September 2004
- Aktenzeichen
- T 0935/03
- Antrag auf Überprüfung von
- -
- Anmeldenummer
- 98934193.8
- IPC-Klasse
- C23C 16/00
- Verfahrenssprache
- Englisch
- Verteilung
- Nicht verteilt (D)
- Download
- Entscheidung auf Englisch
- Amtsblattfassungen
- Keine AB-Links gefunden
- Weitere Entscheidungen für diese Akte
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- Zusammenfassungen für diese Entscheidung
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- Bezeichnung der Anmeldung
- Low temperature chemical vapor deposition process for forming bismuth-containing ceramic thin films useful in ferroelectric memory devices
- Name des Antragstellers
- ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC., et al
- Name des Einsprechenden
- -
- Kammer
- 3.2.07
- Leitsatz
- -
- Relevante Rechtsnormen
- European Patent Convention Art 109 1973European Patent Convention Art 111(1) 1973European Patent Convention R 67 1973
- Schlagwörter
- Interlocutory revision - reimbursement of appeal fee (no) - remittal to the first instance
- Orientierungssatz
- -
- Zitierte Akten
- T 0794/95
- Zitierende Akten
- -
ORDER
For these reasons it is decided that:
1. The decision under appeal is set aside.
2. The case is remitted to the first instance for further prosecution.