T 0409/01 du 26.06.2003
- Identifiant européen de la jurisprudence
- ECLI:EP:BA:2003:T040901.20030626
- Date de la décision
- 26 juin 2003
- Numéro de l'affaire
- T 0409/01
- En ligne le
- 21 juilliet 2003
- Requête en révision de
- -
- Numéro de la demande
- 94118479.8
- Classe de la CIB
- H01L 21/316
- Langue de la procédure
- Anglais
- Distribution
- Distribuées aux présidents des chambres de recours (C)
- Téléchargement
- Décision en anglais
- Versions JO
- Aucun lien JO trouvé
- Autres décisions pour cet affaire
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- Résumés pour cette décision
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- Titre de la demande
- A method of forming silicon oxy-nitride films by plasma- enhanced chemical vapor deposition
- Nom du demandeur
- APPLIED MATERIALS, Inc.
- Nom de l'opposant
- -
- Chambre
- 3.4.03
- Sommaire
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- Dispositions juridiques pertinentes
- European Patent Convention Art 56 1973
- Mots-clés
- Inventive step (yes, after amendments)
- Exergue
- -
- Affaires citées
- -
- Affaires citantes
- -
ORDER
For these reasons it is decided that:
1. The decision under appeal is set aside.
2. The case is remitted to the first instance with the order to grant a patent on the basis of the following patent application documents:
Description:
Pages 1, 2, 8 and 9 as filed;
Pages 3, 3a, 4 to 7, 10 and 11 filed with the letter dated 11 May 1999;
Pages 12 and 13 annexed to the communication of the Board of 20 February 2003 and agreed by the appellant by the letter dated 17 April 2003;
Claims:
No. 1 annexed to the communication of the Board of 20 February 2003 and agreed by the appellant by the letter dated 17 April 2003;
Nos. 2 to 4 of the then first auxiliary request filed with the letter dated 5 October 2000;
Drawings:
Sheet 1/1 as filed.