T 1034/01 du 29.01.2004
- Identifiant européen de la jurisprudence
- ECLI:EP:BA:2004:T103401.20040129
- Date de la décision
- 29 janvier 2004
- Numéro de l'affaire
- T 1034/01
- Requête en révision de
- -
- Numéro de la demande
- 93119391.6
- Classe de la CIB
- H01J 37/32
- Langue de la procédure
- Anglais
- Distribution
- Distribuées aux présidents des chambres de recours (C)
- Téléchargement
- Décision en anglais
- Versions JO
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- Autres décisions pour cet affaire
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- Résumés pour cette décision
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- Titre de la demande
- Process and electromagnetically coupled planar plasma apparatus for etching oxides
- Nom du demandeur
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Nom de l'opposant
- Institute of Technological Information, Inc.
- Chambre
- 3.4.03
- Sommaire
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- Dispositions juridiques pertinentes
- European Patent Convention Art 114 1973European Patent Convention Art 54 1973European Patent Convention Art 56 1973European Patent Convention Art 87 1973
- Mots-clés
- Abuse of procedure (no)
Lack of inventive step of one alternative of an independent claim renders the whole claim not allowable (cf. Reasons for
the Decision, item 6.6)
Inventive step (denied) - Exergue
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- Affaires citantes
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ORDER
For these reasons it is decided that:
1. The decision under appeal is set aside.
2. The patent is revoked.