T 0874/02 (Fluorine-doped silicon oxide layer/APPLIED MATERIALS) du 30.09.2004
- Identifiant européen de la jurisprudence
- ECLI:EP:BA:2004:T087402.20040930
- Date de la décision
- 30 septembre 2004
- Numéro de l'affaire
- T 0874/02
- Requête en révision de
- -
- Numéro de la demande
- 98107039.4
- Classe de la CIB
- H01L 21/316
- Langue de la procédure
- Anglais
- Distribution
- Distribuées aux présidents des chambres de recours (C)
- Téléchargement
- Décision en anglais
- Versions JO
- Aucun lien JO trouvé
- Autres décisions pour cet affaire
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- Résumés pour cette décision
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- Titre de la demande
- Process for depositing a Halogen-doped SiO2 layer
- Nom du demandeur
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Nom de l'opposant
- -
- Chambre
- 3.4.03
- Sommaire
- -
- Dispositions juridiques pertinentes
- European Patent Convention Art 52(2)(c) 1973European Patent Convention Art 56 1973
- Mots-clés
- Inventive step (yes) - after amendments
- Exergue
- -
- Affaires citées
- T 1173/97
- Affaires citantes
- -
ORDER
For these reasons it is decided that:
1. The decision under appeal is set aside.
2. The case is remitted to the department of the first instance with the order to grant a patent on the basis of the following documents:
Claims 1 to 14 as filed with the letter dated 16. September 2004;
Description pages 1 to 22 filed with the statement of the grounds of appeal;
Drawings Sheets 1/21 to 21/21 as originally filed