Skip to main content Skip to footer
HomeHome
 
  • Accueil
  • Recherche de brevets

    Connaissances des brevets

    Accéder à nos bases de données brevets et à nos outils de recherche.

    Consulter la vue d'ensemble 

    • Vue d'ensemble
    • Informations techniques
      • Vue d'ensemble
      • Espacenet - recherche de brevets
      • Serveur de publication européen
      • Recherche EP en texte intégral
    • Informations juridiques
      • Vue d'ensemble
      • Registre européen des brevets
      • Bulletin européen des brevets
      • Plan du site de l'Identifiant européen de la jurisprudence
      • Observations de tiers
    • Informations commerciales
      • Vue d'ensemble
      • PATSTAT
      • IPscore
      • Rapports d’analyse sur les technologies
    • Données
      • Vue d'ensemble
      • Technology Intelligence Platform
      • Données liées ouvertes EP
      • Jeux de données de masse
      • Services Internet
      • Couverture, codes et statistiques
    • Plateformes technologiques
      • Vue d'ensemble
      • Le plastique en pleine mutation
      • Innovation autour de l'eau
      • Innovation spatiale
      • Des technologies pour lutter contre le cancer
      • Technologies de lutte contre les incendies
      • Technologies énergétiques propres
      • Lutte contre le coronavirus
    • Ressources utiles
      • Vue d'ensemble
      • Il s'agit de votre première visite ? Qu'est-ce que l'information brevets ?
      • Information brevets de l'Asie
      • Centres d'information brevets (PATLIB)
      • Patent Translate
      • Patent Knowledge News
      • Commerce et statistiques
      • Informations relatives au brevet unitaire pour la connaissance des brevets
    Image
    Plastics in Transition

    Rapport d’analyse sur les technologies de gestion des déchets plastiques

  • Demander un brevet

    Demander un brevet

    Informations pratiques concernant les procédures de dépôt et de délivrance.

    Consulter la vue d'ensemble 

    • Vue d'ensemble
    • Voie européenne
      • Vue d'ensemble
      • Guide du brevet européen
      • Oppositions
      • Procédure orale
      • Recours
      • Brevet unitaire et juridiction unifiée du brevet
      • Validation nationale
      • Requête en extension/validation
    • Voie internationale (PCT)
      • Vue d'ensemble
      • Guide euro-PCT : procédure PCT devant l'OEB
      • Décisions et communiqués
      • Dispositions et ressources PCT
      • Requête en extension/validation
      • Programme de partenariat renforcé
      • Traitement accéléré des demandes PCT
      • Patent Prosecution Highway (PPH)
      • Formations et manifestations
    • Demandes nationales
    • Trouver un mandataire agréé
    • Services MyEPO
      • Vue d'ensemble
      • Comprendre nos services
      • Accéder aux services
      • Effectuer un dépôt
      • Intervenir sur un dossier
      • Disponibilité de services en ligne
    • Formulaires
      • Vue d'ensemble
      • Requête en examen
    • Taxes
      • Vue d'ensemble
      • Taxes européennes (CBE)
      • Taxes internationales (PCT)
      • Taxes du brevet unitaire
      • Paiements des taxes et remboursements
      • Avertissement

    up

    Découvrez comment le brevet unitaire peut améliorer votre stratégie de PI

  • Informations juridiques

    Informations juridiques

    Droit européen des brevets, Journal officiel et autres textes juridiques.

    Consulter la vue d'ensemble 

    • Vue d'ensemble
    • Textes juridiques
      • Vue d'ensemble
      • Convention sur le brevet européen
      • Journal officiel
      • Directives
      • Système d'extension/de validation
      • Accord de Londres
      • Droit national relatif à la CBE
      • Unitary patent system
      • Mesures nationales relatives au brevet unitaire
    • Pratiques juridictionnelles
      • Vue d'ensemble
      • Colloque des juges européens de brevets
    • Consultations d'utilisateurs
      • Vue d'ensemble
      • Consultations en cours
      • Consultations fermées
    • Harmonisation matérielle du droit des brevets
      • Vue d'ensemble
      • The Tegernsee process
      • Groupe B+
    • Convergence des pratiques
    • Options pour les mandataires agréés
    Image
    Law and practice scales 720x237

    Restez à jour des aspects clés de décisions choisies grâce à notre publication mensuelle "Abstracts of decisions”

  • Actualités et événements

    Actualités et événements

    Nos dernières actualités, podcasts et événements.

    Consulter la vue d'ensemble 

     

    • Vue d'ensemble
    • Actualités
    • Événements
    • Prix de l'inventeur européen
      • Vue d'ensemble
      • Ce que signifie demain
      • À propos du prix
      • Catégories et prix
      • Rencontrez les finalistes
      • Proposer un inventeur
      • European Inventor Network
      • La cérémonie 2024
    • Young Inventors Prize
      • Vue d'ensemble
      • À propos du prix
      • Appel à candidatures
      • Le jury
      • Le monde, réinventé
    • Centre de presse
      • Vue d'ensemble
      • Patent Index et statistiques
      • Recherche dans le centre de presse
      • Rappel des faits
      • Droits d'auteur
      • Contact presse
      • Demande de rappel
      • Service d'alerte par courriel
    • Coup de projecteur sur l'innovation et la protection par brevets
      • Vue d'ensemble
      • Water-related technologies
      • CodeFest
      • Green tech in focus
      • Research institutes
      • Women inventors
      • Brevets et société
      • Technologies spatiales et satellitaires
      • L'avenir de la médecine
      • Science des matériaux
      • Communications mobiles
      • Brevets dans le domaine des biotechnologies
      • Patent classification
      • Technologies numériques
      • La fabrication de demain
      • Books by EPO experts
    • Podcast "Talk innovation"

    podcast

    De l’idée à l’invention : notre podcast vous présente les actualités en matière de technologies et de PI

  • Formation

    Formation

    L'Académie européenne des brevets – point d'accès pour vos formations

    Consulter la vue d'ensemble 

    • Vue d'ensemble
    • Activités de formation et parcours d'apprentissage
      • Vue d'ensemble
      • Activités de formation
      • Parcours d’apprentissage
    • EEQ et CEAB
      • Vue d'ensemble
      • EEQ – Examen européen de qualification
      • CEAB – Certificat européen d’administration des brevets
      • CSP – Programme de soutien aux candidats
    • Ressources par centre d'intérêt
      • Vue d'ensemble
      • Délivrance des brevets
      • Transfert et diffusion de technologies
      • Application des droits de brevet et contentieux en matière de brevets
    • Ressources de formation par profil
      • Vue d'ensemble
      • Entreprise et responsables PI
      • Candidats à l'EEQ et CEAB
      • Juges, juristes et parquets
      • Bureaux nationaux et autorités de PI
      • Conseils en brevets et assistants juridiques
      • Universités, centres de recherche et centre de transfert de technologie
    Image
    Patent Academy catalogue

    Un vaste éventail d’opportunités de formation dans le catalogue de l’Académie européenne des brevets

  • Découvrez-nous

    Découvrez-nous

    En savoir plus sur notre travail, nos valeurs, notre histoire et notre vision.

    Consulter la vue d'ensemble 

    • Vue d'ensemble
    • L'OEB en bref
    • Les 50 ans de la Convention sur le brevet européen
      • Vue d'ensemble
      • Official celebrations
      • Member states’ video statements
      • 50 Leading Tech Voices
      • Athens Marathon
      • Concours d’art collaboratif pour enfants
    • Fondements juridiques et États membres
      • Vue d'ensemble
      • Fondements juridiques
      • États membres de l'Organisation européenne des brevets
      • Etats autorisant l’extension
      • Etats autorisant la validation
    • Conseil d'administration et organes auxiliaires
      • Vue d'ensemble
      • Communiqués
      • Calendrier
      • Documentation
      • Le Conseil d'administration de l'Organisation européenne des brevets
    • Principes et stratégie
      • Vue d'ensemble
      • Mission, vision et valeurs
      • Plan stratégique 2028
      • Vers une nouvelle normalité
    • Présidence et Comité de direction
      • Vue d'ensemble
      • Président António Campinos
      • Comité consultatif de direction
    • Sustainability at the EPO
      • Vue d'ensemble
      • Environmental
      • Social
      • Governance and Financial sustainability
    • Services et activités
      • Vue d'ensemble
      • Nos services et notre structure
      • Qualité
      • Consultation de nos utilisateurs
      • Coopération européenne et internationale
      • Académie européenne des brevets
      • Économiste en chef
      • Bureau de médiation
      • Signaler des actes répréhensibles
    • Observatoire des brevets et des technologies
      • Vue d'ensemble
      • Technologies
      • Acteurs de l'innovation
      • Politique et financement
      • Outils
      • À propos de l'Observatoire
    • Achats
      • Vue d'ensemble
      • Plan d’achats prévisionnel
      • La passation de marchés avec l'OEB
      • Procédures d'achat
      • Politique d'achat durable
      • Comment s‘enregistrer pour appels à la concurrence électroniques et signatures électroniques
      • Portail des achats
      • Facturation
      • Conditions générales
      • Appels à la concurrence archivés
    • Portail de transparence
      • Vue d'ensemble
      • Généralités
      • Capital humain
      • Capital environnemental
      • Capital organisationnel
      • Capital social et relationnel
      • Capital économique
      • Gouvernance
    • Statistics and trends
      • Vue d'ensemble
      • Statistics & Trends Centre
      • Patent Index 2024
      • EPO Data Hub
      • Clarification on data sources
    • Historique de l'OEB
      • Vue d'ensemble
      • Années 1970
      • Années 1980
      • Années 1990
      • Années 2000
      • Années 2010
      • Années 2020
    • La collection d'art de l'OEB
      • Vue d'ensemble
      • La collection
      • Let's talk about art
      • Artistes
      • Médiathèque
      • What's on
      • Publications
      • Contact
      • Espace Culture A&T 5-10
      • "Longue nuit"
    Image
    Patent Index 2024 keyvisual showing brightly lit up data chip, tinted in purple, bright blue

    Suivez les dernières tendances technologiques grâce à notre Patent Index

 
en de fr
  • Language selection
  • English
  • Deutsch
  • Français
Main navigation
  • Homepage
    • Go back
    • Êtes-vous novice en matière de brevets ?
  • Êtes-vous novice en matière de brevets ?
    • Go back
    • Votre entreprise et les brevets
    • Pourquoi les brevets existent-ils ?
    • Quelle est votre grande idée ?
    • Êtes-vous prêts ?
    • Ce qui vous attend
    • Comment déposer une demande de brevet
    • Mon idée est-elle brevetable?
    • Êtes-vous le premier ?
    • Quiz sur les brevets
    • Vidéo sur le brevet unitaire
  • Recherche de brevets
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • Informations techniques
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Espacenet - recherche de brevets
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Bases de données des offices nationaux et régionaux
        • Global Patent Index (GPI)
        • Notes de version
      • Serveur de publication européen
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Notes de version
        • Tableau de correspondance pour les demandes Euro-PCT
        • Fichier d’autorité EP
        • Aide
      • Recherche EP en texte intégral
    • Informations juridiques
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Registre européen des brevets
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Notes de version archive
        • Documentation sur le Registre
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Couverture de données pour lien profonds
          • Registre fédéré
          • Événements du Registre
      • Bulletin européen des brevets
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Télécharger les fichiers du Bulletin
        • Recherche dans le Bulletin EP
        • Help
      • Plan du site de l'Identifiant européen de la jurisprudence
      • Observations de tiers
    • Informations commerciales
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • PATSTAT
      • IPscore
        • Go back
        • Notes de version
      • Rapports d’analyse sur les technologies
    • Données
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Technology Intelligence Platform
      • Données liées ouvertes EP
      • Jeux de données de masse
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Manuals
        • Listages de séquences
        • Données nationales en texte intégral
        • Données du Registre européen des brevets
        • Données bibliographiques mondiale de l'OEB (DOCDB)
        • Données EP en texte intégral
        • Données mondiales de l'OEB relatives aux événements juridiques (INPADOC)
        • Données bibliographiques EP (EBD)
        • Décisions des chambres de recours de l'OEB
      • Services Internet
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Services brevets ouverts (OPS)
        • Serveur de publication européen (service web)
      • Couverture, codes et statistiques
        • Go back
        • Mises à jour hebdomadaires
        • Mises à jour régulières
    • Plateformes technologiques
      • Go back
      • Le plastique en pleine mutation
        • Go back
        • Overview
        • Récupération des déchets plastiques
        • Recyclage des déchets plastiques
        • Matières plastiques de substitution
      • Vue d'ensemble
      • L'innovation dans les technologies de l'eau
        • Go back
        • Overview
        • Eau salubre
        • Protection contre l'eau
      • Innovation spatiale
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Astronautique
        • Observation spatiale
      • Des technologies pour lutter contre le cancer
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Prévention et détection précoce
        • Diagnostics
        • Thérapies
        • Bien-être et suivi
      • Technologies de lutte contre les incendies
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Détection et prévention des incendies
        • Extinction des incendies
        • Matériel de protection
        • Technologies de restauration après incendie
      • Technologies énergétiques propres
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Énergies renouvelables
        • Industries à fortes émissions de carbone
        • Stockage de l’énergie et autres technologies complémentaires
      • Lutte contre le coronavirus
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Vaccins et thérapies
          • Go back
          • Overview
          • Vaccins
          • Aperçu des traitements candidats contre la Covid-19
          • Antiviral et traitement symptomatique candidats
          • Acides nucléiques et anticorps de lutte contre le coronavirus
        • Diagnostics et analyses
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Diagnostics - essais basés sur une protéine ou un acide nucléique
          • Protocoles analytiques
        • Informatique
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Bioinformatique
          • Informatique médicale
        • Les technologies de la nouvelle normalité
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Appareils, matériel et équipements
          • Procédures, actions et activités
          • Technologies numériques
        • Les inventeurs en lutte contre le coronavirus
    • Ressources utiles
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Il s'agit de votre première visite ? Qu'est-ce que l'information brevets ?
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Définitions de base
        • Classification des brevets
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Classification coopérative des brevets (CPC)
        • Familles de brevets
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Famille de brevets simple DOCDB
          • Famille de brevets élargie INPADOC
        • À propos des événements juridiques
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Système de classification INPADOC
      • Information brevets de l'Asie
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • China (CN)
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Facts and figures
          • Grant procedure
          • Numbering system
          • Useful terms
          • Searching in databases
        • Taipei Chinois (TW)
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Grant procedure
          • Numbering system
          • Useful terms
          • Searching in databases
        • Inde (IN)
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Facts and figures
          • Grant procedure
          • Numbering system
        • Japon (JP)
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Facts and figures
          • Grant procedure
          • Numbering system
          • Useful terms
          • Searching in databases
        • Corée (KR)
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Facts and figures
          • Grant procedure
          • Numbering system
          • Useful terms
          • Searching in databases
        • Fédération de Russie (RU)
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Facts and figures
          • Numbering system
          • Searching in databases
        • Useful links
      • Centres d'information brevets (PATLIB)
      • Patent Translate
      • Patent Knowledge News
      • Commerce et statistiques
      • Informations relatives au brevet unitaire pour la connaissance des brevets
  • Demander un brevet
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • Voie européenne
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Guide du brevet européen
      • Oppositions
      • Procédure orale
        • Go back
        • Calendrier des procédures orales
          • Go back
          • Accès du public à la procédure de recours
          • Accès du public à la procédure d’opposition
          • Calendrier des procédures orales
          • Directives techniques
      • Recours
      • Brevet unitaire et juridiction unifiée du brevet
        • Go back
        • Brevet unitaire
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Cadre juridique
          • Principales caractéristiques
          • Comment obtenir un brevet unitaire
          • Coût d'un brevet unitaire
          • Traduction et compensation
          • Date de début
          • Introductory brochures
        • Vue d'ensemble
        • Juridiction unifiée du brevet
      • National validation
      • Requête en extension/validation
    • Demandes internationales
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Guide euro-PCT
      • Entrée dans la phase européenne
      • Décisions et communiqués
      • Dispositions et ressources PCT
      • Requête en extension/validation
      • Programme de partenariat renforcé
      • Traitement accéléré des demandes PCT
      • Patent Prosecution Highway (PPH)
        • Go back
        • Programme Patent Prosecution Highway (PPH) – Présentation
      • Formations et manifestations
    • Voie nationale
    • Services MyEPO
      • Go back
      • Overview
      • Comprendre nos services
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Exchange data with us using an API
          • Go back
          • Notes de version
      • Accéder aux services
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Notes de version
      • Effectuer un dépôt
        • Go back
        • Effectuer un dépôt
        • Que faire si nos services de dépôt en ligne sont indisponibles ?
        • Notes de version
      • Intervenir sur un dossier
        • Go back
        • Notes de version
      • Disponibilité de services en ligne
    • Taxes
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Taxes européennes (CBE)
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Décisions et communiqués
      • Taxes internationales (PCT)
        • Go back
        • Réduction des taxes
        • Taxes pour les demandes internationales
        • Décisions et communiqués
        • Vue d'ensemble
      • Taxes du brevet unitaire
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Décisions et avis
      • Paiements des taxes et remboursements
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Modes de paiement
        • Premiers pas
        • FAQs et autre documentation
        • Informations techniques concernant les paiements groupés
        • Décisions et communiqués
        • Notes de version
      • Avertissement
    • Formulaires
      • Go back
      • Requête en examen
      • Vue d'ensemble
    • Trouver un mandataire agréé
  • Informations juridiques
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • Textes juridiques
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Convention sur le brevet européen
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Archive
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Documentation sur la révision de la CBE en 2000
            • Go back
            • Vue d'ensemble
            • Conférence diplomatique pour la révision de la CBE
            • Travaux préparatoires
            • Nouveau texte
            • Dispositions transitoires
            • Règlement d'exécution de la CBE 2000
            • Règlement relatif aux taxes
            • Ratifications et adhésions
          • Travaux Préparatoires CBE 1973
      • Journal officiel
      • Directives
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Directives CBE
        • Directives PCT de l'OEB
        • Directives relatives au brevet unitaire
        • Cycle de révision des directives
        • Consultation results
        • Résumé des contributions des utilisateurs
        • Archive
      • Système d'extension/de validation
      • Accord de Londres
      • Droit national relatif à la CBE
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Archive
      • Système du brevet unitaire
        • Go back
        • Travaux préparatoires to UP and UPC
      • Mesures nationales relatives au brevet unitaire
    • Pratiques juridictionnelles
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Colloque des juges européens de brevets
    • Consultations d'utilisateurs
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Consultations en cours
      • Consultations fermées
    • Harmonisation matérielle du droit des brevets
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • The Tegernsee process
      • Groupe B+
    • Convergence des pratiques
    • Options pour les mandataires agréés
  • Actualités et événements
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • Actualités
    • Événements
    • Prix de l'inventeur européen
      • Go back
      • The meaning of tomorrow
      • Vue d'ensemble
      • À propos du prix
      • Catégories et prix
      • Découvrir les inventeurs
      • Proposer un inventeur
      • European Inventor Network
        • Go back
        • 2024 activities
        • 2025 activities
        • Rules and criteria
        • FAQ
      • La cérémonie 2024
    • Young Inventors Prize
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • À propos du prix
      • Appel à candidatures
      • Le jury
      • The world, reimagined
      • La cérémonie 2025
    • Centre de presse
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Patent Index et statistiques
      • Recherche dans le centre de presse
      • Rappel des faits
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • L'Office européen des brevets
        • Questions/réponses sur les brevets en lien avec le coronavirus
        • Questions/réponses sur les brevets portant sur des végétaux
      • Droits d'auteur
      • Contact presse
      • Formulaire - Demande de rappel
      • Service d'alerte par courriel
    • Coup de projecteur
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Technologies liées à l'eau
      • CodeFest
        • Go back
        • CodeFest Spring 2025 on classifying patent data for sustainable development
        • Vue d'ensemble
        • CodeFest 2024 sur l'IA générative
        • CodeFest 2023 sur les plastiques verts
      • Green tech in focus
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • About green tech
        • Renewable energies
        • Energy transition technologies
        • Building a greener future
      • Research institutes
      • Women inventors
      • Brevets et société
      • Technologies spatiales et satellitaires
        • Go back
        • Brevets et technologies spatiales
        • Vue d'ensemble
      • L'avenir de la médecine
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Technologies médicales et cancer
        • Personalised medicine
      • Science des matériaux
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Nanotechnologie
      • Communications mobiles
      • Biotechnologie
        • Go back
        • Biotechnologies rouges, blanches ou vertes
        • Vue d'ensemble
        • Rôle de l’OEB
        • Inventions brevetables
        • Les inventeurs dans le domaine des biotechnologies
      • Classification
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Nanotechnology
        • Climate change mitigation technologies
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • External partners
          • Updates on Y02 and Y04S
      • Technologies numériques
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • A propos des TIC
        • Matériel et logiciel
        • Intelligence artificielle
        • Quatrième révolution industrielle
      • Fabrication additive
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • À propos de la FA
        • Innover avec la FA
      • Books by EPO experts
    • Podcast
  • Formation
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • Activités de formation et parcours d'apprentissage
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Activités de formation : types et formats
      • Parcours d’apprentissage
    • EEQ et CEAB
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • EEQ – Examen européen de qualification
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Compendium
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Épreuve F
          • Épreuve A
          • Épreuve B
          • Épreuve C
          • Épreuve D
          • Examen préliminaire
        • Candidats reçus
        • Archives
      • CEAB – Certificat européen d’administration des brevets
      • CSP – Programme de soutien aux candidats
    • Ressources de formation par centre d'intérêt
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Délivrance des brevets
      • Transfert et diffusion de technologies
      • Application des droits de brevet et contentieux en matière de brevets
    • Ressources de formation par profil
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Enterprises et responsables IP
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Innovation case studies
          • Go back
          • Overview
          • SME case studies
          • Technology transfer case studies
          • Études de cas : technologies à forte croissance
        • Inventor's handbook
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Introduction
          • Disclosure and confidentiality
          • Novelty and prior art
          • Competition and market potential
          • Assessing the risk ahead
          • Proving the invention
          • Protecting your idea
          • Building a team and seeking funding
          • Business planning
          • Finding and approaching companies
          • Dealing with companies
        • Best of search matters
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Tools and databases
          • EPO procedures and initiatives
          • Search strategies
          • Challenges and specific topics
        • Support for high-growth technology businesses
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Business decision-makers
          • IP professionals
          • Stakeholders of the Innovation Ecosystem
      • Candidats à l'EEQ et CEAB
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Casse-têtes sur l'épreuve F
        • Questions D quotidiennes
        • Examen européen de qualification - Guide de préparation
        • CEAB
      • Juges, juristes et parquets
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Compulsory licensing in Europe
        • Compétences des juridictions européennes pour les litiges en matière de brevets
      • Offices nationaux et administrations de la PI
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Parcours d'apprentissage pour les examinateurs de brevets des offices nationaux
        • Parcours d'apprentissage pour agents des formalités et assistants juridiques
      • Conseils en brevets et assistants juridiques
      • Universités, centres de recherche et Offices de Transfert Technologique
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Cadre modulaire d'enseignement de la propriété intellectuelle (MIPEF)
        • Programme de stages professionnels "Pan-European Seal"
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Pour les étudiants
          • Pour les universités
            • Go back
            • Vue d'ensemble
            • Ressources éducatives sur la propriété intellectuelle
            • Adhésion universitaire
          • Nos jeunes professionnel(le)s
          • Programme de développement professionnel
        • Programme de recherche académique (ARP)
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Projets de recherche finalisés
          • Projets de recherche en cours
        • Kit d'enseignement sur la PI
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Télécharger des modules
        • Manuel de conception de cours sur la propriété intellectuelle
        • PATLIB Knowledge Transfer to Africa
          • Go back
          • Initiative sur le transfert de connaissances vers l'Afrique (KT2A)
          • Activités fondamentales dans le cadre de l'initiative KT2A
          • Jumelage réussi dans le cadre de l'initiative KT2A : le centre PATLIB de Birmingham et l'université des sciences et technologies du Malawi
  • Découvrez-nous
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • L'OEB en bref
    • Les 50 ans de la CBE
      • Go back
      • Official celebrations
      • Vue d'ensemble
      • Member states’ video statements
        • Go back
        • Albania
        • Austria
        • Belgium
        • Bulgaria
        • Croatia
        • Cyprus
        • Czech Republic
        • Denmark
        • Estonia
        • Finland
        • France
        • Germany
        • Greece
        • Hungary
        • Iceland
        • Ireland
        • Italy
        • Latvia
        • Liechtenstein
        • Lithuania
        • Luxembourg
        • Malta
        • Monaco
        • Montenegro
        • Netherlands
        • North Macedonia
        • Norway
        • Poland
        • Portugal
        • Romania
        • San Marino
        • Serbia
        • Slovakia
        • Slovenia
        • Spain
        • Sweden
        • Switzerland
        • Türkiye
        • United Kingdom
      • 50 Leading Tech Voices
      • Athens Marathon
      • Concours d’art collaboratif pour enfants
    • Fondements juridiques et États membres
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Fondements juridiques
      • Etats membres
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Etats membres selon la date d'adhésion
      • Etats autorisant l’extension
      • Etats autorisant la validation
    • Conseil d'administration et organes auxiliaires
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Communiqués
        • Go back
        • 2024
        • Vue d'ensemble
        • 2023
        • 2022
        • 2021
        • 2020
        • 2019
        • 2018
        • 2017
        • 2016
        • 2015
        • 2014
        • 2013
      • Calendrier
      • Documentation
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Documents du Comité restreint
      • Conseil d'administration
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Composition
        • Représentants
        • Règlement intérieur
        • Collège des commissaires aux comptes
        • Secrétariat
        • Organes
    • Principes et stratégie
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Mission, vision et valeurs
      • Plan stratégique 2028
        • Go back
        • Levier 1 : Les personnes
        • Levier 2 : Les technologies
        • Levier 3 : Des produits et services de grande qualité
        • Levier 4 : Les partenariats
        • Levier 5 : La pérennité financière
      • Vers une nouvelle normalité
      • Protection des données et confidentialité
    • Présidence et Comité de direction
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • A propos du Président
      • Comité consultatif de direction
    • La pérennité à l'OEB
      • Go back
      • Overview
      • Pérennité environnementale
        • Go back
        • Overview
        • Inventions environnementales inspirantes
      • Pérennité sociale
        • Go back
        • Overview
        • Inventions sociales inspirantes
      • Gouvernance et pérennité financière
    • Achats
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Plan d’achats prévisionnel
      • La passation de marchés avec l'OEB
      • Procédures d'achat
      • Publications du système d'acquisition dynamique
      • Politique d'achat durable
      • Sur appels à la concurrence électroniques
      • Facturation
      • Portail des achats
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Signature électronique des contrats
      • Conditions générales
      • Appels à la concurrence archivés
    • Services et activités
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Nos services et notre structure
      • Qualité
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Fondements
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • La Convention sur le brevet européen
          • Directives relatives à l'examen
          • Notre personnel
        • Comment stimuler la qualité
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • État de la technique
          • Système de classification
          • Outils
          • Des procédés gages de qualité
        • Produits et services
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Recherches
          • Examens
          • Oppositions
          • Amélioration continue
        • La qualité grâce au travail en réseau
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Engagement des utilisateurs
          • Coopération
          • Enquêtes visant à évaluer le degré de satisfaction
          • Groupes de parties prenantes sur l'assurance de la qualité
        • Charte sur la qualité des brevets
        • Plan d'action pour la qualité
        • Quality dashboard
        • Statistiques
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Recherche
          • Examen
          • Opposition
        • Gestion intégrée à l'OEB
      • Consultation de nos utilisateurs
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Comité consultatif permanent auprès de l'OEB
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Objectifs
          • Le SACEPO et ses groupes de travail
          • Réunions
          • Espace délégués
        • Enquêtes
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Méthodologie détaillée
          • Services de recherche
          • Services d'examen, actions finales et publication
          • Services d'opposition
          • Services de Formalités
          • Service clientèle
          • Services de dépôt
          • Gestion des grands comptes
          • Site web de l'OEB
          • Archives
      • Notre charte du service clientèle
      • Coopération européenne et internationale
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Coopération avec les Etats membres
          • Go back
          • Vue d'ensemble
        • Coopération bilatérale avec les États non membres
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Le système de validation
          • Programme de partenariat renforcé
        • Organisations internationales, coopération tripartite et IP5
        • Coopération avec les organisations internationales en dehors du système de PI
      • Académie européenne des brevets
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Partenaires
      • Économiste en chef
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Études économiques
      • Bureau de l'Ombud
      • Signaler des actes répréhensibles
    • Observatoire des brevets et des technologies
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Technologies
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Innovation contre le cancer
        • Robotique d'assistance
        • Technologies spatiales
      • Acteurs de l'innovation
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Start-ups et PME
          • Go back
          • Publications
          • Vue d'ensemble
        • Les universités de recherche et les organismes publics de recherche
      • Politique et financement
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Programme de financement de l'innovation
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Nos études sur le financement de l'innovation
          • Initiatives de l'OEB pour les demandeurs de brevet
          • Soutien financier pour les innovateurs en Europe
        • Brevets et normes
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Publications
          • Patent standards explorer
      • Outils
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Deep Tech Finder
      • À propos de l'Observatoire
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Programme de travail
    • Transparency portal
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Généralités
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Annual Review 2023
          • Go back
          • Overview
          • Foreword
          • Executive summary
          • 50 years of the EPC
          • Strategic key performance indicators
          • Goal 1: Engaged and empowered
          • Goal 2: Digital transformation
          • Goal 3: Master quality
          • Goal 4: Partner for positive impact
          • Goal 5: Secure sustainability
        • Annual Review 2022
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Foreword
          • Executive summary
          • Goal 1: Engaged and empowered
          • Goal 2: Digital transformation
          • Goal 3: Master quality
          • Goal 4: Partner for positive impact
          • Goal 5: Secure sustainability
      • Capital humain
      • Capital environnemental
      • Capital organisationnel
      • Capital social et relationnel
      • Capital économique
      • Gouvernance
    • Statistics and trends
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Statistics & Trends Centre
      • Patent Index 2024
        • Go back
        • Insight into computer technology and AI
        • Insight into clean energy technologies
        • Statistics and indicators
          • Go back
          • European patent applications
            • Go back
            • Key trend
            • Origin
            • Top 10 technical fields
              • Go back
              • Computer technology
              • Electrical machinery, apparatus, energy
              • Digital communication
              • Medical technology
              • Transport
              • Measurement
              • Biotechnology
              • Pharmaceuticals
              • Other special machines
              • Organic fine chemistry
            • All technical fields
          • Applicants
            • Go back
            • Top 50
            • Categories
            • Women inventors
          • Granted patents
            • Go back
            • Key trend
            • Origin
            • Designations
      • Data to download
      • EPO Data Hub
      • Clarification on data sources
    • Historique
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • 1970s
      • 1980s
      • 1990s
      • 2000s
      • 2010s
      • 2020s
    • Collection d'art
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • La collection
      • Let's talk about art
      • Artistes
      • Médiathèque
      • What's on
      • Publications
      • Contact
      • Espace Culture A&T 5-10
        • Go back
        • Catalyst lab & Deep vision
          • Go back
          • Irene Sauter (DE)
          • AVPD (DK)
          • Jan Robert Leegte (NL)
          • Jānis Dzirnieks (LV) #1
          • Jānis Dzirnieks (LV) #2
          • Péter Szalay (HU)
          • Thomas Feuerstein (AT)
          • Tom Burr (US)
          • Wolfgang Tillmans (DE)
          • TerraPort
          • Unfinished Sculpture - Captives #1
          • Deep vision – immersive exhibition
          • Expositions précédentes
        • The European Patent Journey
        • Sustaining life. Art in the climate emergency
        • Next generation statements
        • Open storage
        • Cosmic bar
      • "Longue nuit"
  • Chambres de recours
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • Décisions des chambres de recours
      • Go back
      • Décisions récentes
      • Vue d'ensemble
      • Sélection de décisions
    • Communications des chambres de recours
    • Procédure
    • Procédures orales
    • À propos des chambres de recours
      • Go back
      • Vue d’ensemble
      • Président des chambres de recours
      • Grande Chambre de recours
        • Go back
        • Vue d’ensemble
        • Pending referrals (Art. 112 EPC)
        • Decisions sorted by number (Art. 112 EPC)
        • Pending petitions for review (Art. 112a EPC)
        • Decisions on petitions for review (Art. 112a EPC)
      • Chambres de recours techniques
      • Chambre de recours juridique
      • Chambre de recours statuant en matière disciplinaire
      • Praesidium
        • Go back
        • Vue d’ensemble
    • Code de conduite
    • Plan de répartition des affaires
      • Go back
      • Vue d’ensemble
      • Technical boards of appeal by IPC in 2025
      • Archive
    • Liste annuelle des affaires
    • Communications
    • Rapport annuel
      • Go back
      • Vue d’ensemble
    • Publications
      • Go back
      • Résumés des décisions
    • La Jurisprudence des Chambres de recours
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Archive
  • Service et ressources
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • Mises à jour du site Internet
    • Disponibilité de services en ligne
      • Go back
      • Vue d'ensemble
    • FAQ
      • Go back
      • Vue d'ensemble
    • Publications
    • Commande
      • Go back
      • Connaissances des Brevets - Produits et Services
      • Vue d'ensemble
      • Conditions générales
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Produits d'informations brevets
        • Donnés brutes
        • Services brevets ouverts (OPS)
        • Charte d'utilisation équitable
    • Notifications relatives aux procédures
    • Liens utiles
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Offices des brevets des Etats membres
      • Autres offices des brevets
      • Répertoires de conseils en propriété industrielle
      • Bases de données, registres et gazettes des brevets
      • Disclaimer
    • Centre d'abonnement
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • S'abonner
      • Gérer ses préférences
      • Se désabonner
    • Contactez-nous
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Options de dépôt
      • Localisations
    • Jours fériés
    • Glossaire
    • Flux RSS
Board of Appeals
Decisions

Recent decisions

Vue d'ensemble
  • 2025 decisions
  • 2024 decisions
  • 2023 decisions
  1. Accueil
  2. T 0172/97 23-07-1999
Facebook X Linkedin Email

T 0172/97 23-07-1999

Identifiant européen de la jurisprudence
ECLI:EP:BA:1999:T017297.19990723
Date de la décision
23 July 1999
Numéro de l'affaire
T 0172/97
Requête en révision de
-
Numéro de la demande
92402207.2
Classe de la CIB
H01L 21/321
H01L 21/033
Langue de la procédure
FR
Distribution
DISTRIBUÉES AUX PRÉSIDENTS ET AUX MEMBRES DES CHAMBRES DE RECOURS (B)

Téléchargement et informations complémentaires:

Décision en FR 900.51 KB
Les documents concernant la procédure de recours sont disponibles dans le Registre européen des brevets
Informations bibliographiques disponibles en:
FR
Versions
Non publié
Titre de la demande

Procédé de contrôle du profil de gravure d'une couche d'un circuit intégré

Nom du demandeur
MHS
Nom de l'opposant
-
Chambre
3.4.03
Sommaire
-
Dispositions juridiques pertinentes
European Patent Convention Art 56 1973
European Patent Convention Art 83 1973
European Patent Convention R 67 1973
Mot-clé

Activité inventive (oui)

Remboursement de la taxe de recours (non, requête auxiliaire non dûment déposée)

Exergue
-
Décisions citées
T 0068/85
T 0752/90
T 1055/92
Décisions dans lesquelles la présente décision est citée
-

I. Par décision annoncée à l'issue de la procédure orale du 4. juin 1996 et signifiée par voie postale le 1er octobre 1996, la demande de brevet n 92 402 207.2 (no de publication 0 528 713) a été rejetée par la division d'examen au motif que la revendication 1 qui avait été déposée le 2 mai 1996 n'était pas claire au sens de l'article 84 CBE.

Le texte de ladite revendication 1 était le suivant :

"1. Procédé de gravure en pente d'une couche d'un circuit intégré, dite couche à graver (1), cette couche étant revêtue d'une couche de réserve (2) formant masque, caractérisé en ce que ledit procédé consiste à effectuer conjointement :

- une passivation (P) du flanc de gravure de ladite couche à graver (1),

- une érosion non isotrope de ladite couche de réserve (2) formant masque, ladite érosion non isotrope étant effectuée par un processus de gravure ionique réactive par gravure anisotrope et dépôt conjoint d'un composé peu volatil sur le pied du flanc de la couche de réserve, réalisant cette passivation en milieu de gravure à activité polymérisante très faible, l'atmosphère de gravure consistant en un composé chloré dilué dans un gaz neutre, soit en l'absence de dépôt de composés chloro- ou fluorocarbonés, ce qui permet de contrôler la pente (pe) du flanc de gravure de ladite couche à graver."

La revendication dépendante 6 du même jeu de revendications comportait la relation : dans laquelle , , vcg, vcr et D représentaient les caractéristiques suivantes :

- l'angle du flanc de gravure de la couche à graver (1),

- l'angle instantané du pied de la couche de réserve formant masque,

vcg : la vitesse apparente de gravure de la couche à graver (1),

vcr : la vitesse de gravure de la couche de réserve formant masque, et

D : la vitesse de dépôt isotrope de la couche de passivation.

II. La Division d'examen a fondé le rejet sur les considérations suivantes concernant la clarté :

La revendication 1 comporte la formulation "ce qui permet de contrôler la pente (pe) du flanc de gravure de ladite couche à graver", et elle exprime donc un résultat à atteindre ; cependant, elle ne définit en aucune manière comment est obtenu ce résultat, ni quelles caractéristiques sont à mettre en oeuvre pour obtenir un flanc de gravure en pente de la couche à graver pré-sélectionné ; à ce titre, l'obtention d'un profil en pente conforme à une valeur pré-sélectionnée exige de la part de l'homme du métier un nombre élevé de déductions, d'essais et d'expérimentations, qui dépasse largement le cadre des essais de routine dont il est question dans les décisions des Chambres de recours T 68/85, JO OEB 1987, 228 et T 752/90 du 8. décembre 1992. Les arguments du demandeur, selon lesquels, d'une part, les ordres de grandeur des vitesses de gravure de la résine et de la couche à graver à obtenir pour parvenir au résultat peuvent être déduits des exemples donnés dans la description et, d'autre part, la formule générale de la revendication dépendante 6 permet de déterminer la valeur de la tangente de la pente du flanc de la couche à graver en fonction des vitesses de gravure et de l'angle de la pente du flanc de la résine, ne peuvent être acceptés car, selon l'article 84 CBE, la revendication doit être claire en soi.

Il en est de même pour d'autres défauts de clarté de la revendication 1 liés à l'utilisation de termes tels que "peu volatil", "à activité polymérisante très faible", et "gravure non isotrope", qui sont vagues et qui, seuls ou en combinaison, ne peuvent définir une caractéristique claire. Les explications fournies par le demandeur ne permettent pas de déterminer si, par exemple, le gaz CCl4 utilisé dans le document D1 = US-A-4 436 584 peut présenter une activité polymérisante très faible.

On peut aussi remarquer que l'homme du métier ne sait pas à priori comment déposer un composé "sur le pied du flanc" d'une résine. La formulation "érosion non isotrope", qui n'est pas directement connue de l'homme du métier et qui repose sur des formulations obscures, ne peut donc définir une caractéristique claire.

D'autres obscurités sont liées à des caractéristiques qui apparaissent essentielles pour résoudre le problème de l'art antérieur et réaliser l'invention mais qui sont absentes de la revendication principale, comme par exemple l'orientation choisie pour l'érosion anisotrope.

Par conséquent, la revendication n'est pas claire, et la demande est rejetée.

Remarques concernant ladite décision

Dans la décision, il est ajouté que l'objet de la revendication 1, quand il est lu et compris à la lumière des exemples de la description, n'implique pas de caractère inventif car il résulte de l'adaptation et de l'optimisation du procédé connu de D6 = US-A-4 678 540 ou de celui de D7 = Japanese Journal of Applied Physics, vol. 28, N 6, pages L1070 - L1072, et de telles opérations font partie de l'activité pratique courante de l'homme du métier.

La décision ne comporte aucune mention concernant un éventuel défaut d'exposé de l'invention (art. 83 CBE), mais il ressort du procès-verbal de la procédure orale qui l'a précédée qu'un tel défaut, non précisé, a bien été évoqué par la Division d'examen.

III. Le demandeur a formé un recours contre cette décision le 17. octobre 1996 et payé la taxe de recours le jour même.

Dans le mémoire de recours, c'est-à-dire la lettre du 23. janvier 1997 parvenue le 27 janvier 1997, sont formulées, entre autres, une requête visant à annuler la décision contestée et une requête sollicitant le remboursement de la taxe de recours au titre de la règle 67 CBE en raison du caractère abusif de la conduite de la procédure et des vices substantiels de procédure ainsi établis.

De plus, le mémoire contient une requête en correction d'une erreur matérielle dans la description, à la page 14, ligne 1, dans laquelle il est nécessaire à l'évidence de lire : 60 sccm N2 en lieu et place de 60. sccm Cl2.

IV. Durant la procédure orale du 23 juillet 1999 devant la Chambre de recours qui avait été requise par le requérant (demandeur) par lettre du 9 février 1999, un nouveau texte de la demande de brevet a été déposé, consistant en :

Description : pages 1, 2, 2a et 3 à 15,

Revendications : n 1 et 2 ; et

Dessins : feuilles N 1/4 à 4/4.

Le requérant requiert l'annulation de la décision contestée et la délivrance d'un brevet sur les pièces de la demande déposée le jour même et, de plus, le remboursement de la taxe de recours. Il renonce aux requêtes supplémentaires formulées dans le mémoire de recours.

L'unique revendication indépendante a le texte suivant :

"1. Procédé de gravure en pente d'une couche d'un circuit intégré, dite couche à graver (1), cette couche étant revêtue d'une couche de réserve (2) formant masque et présentant un flanc de gravure pendant l'opération de gravure, consistant à effectuer conjointement, pendant le processus de gravure :

- une passivation (P) du flanc de gravure de ladite couche à graver (1),

- une érosion non isotrope de ladite couche de réserve formant masque (2), en vue de contrôler la pente du flanc de gravure de ladite couche à graver (1), ladite érosion non isotrope consistant à réaliser un profilage à partir d'un facettage par gravure anisotrope de ladite couche de réserve formant masque au pied du flanc de cette couche de réserve, ladite érosion non isotrope étant effectuée par un processus de gravure ionique réactive, par gravure anisotrope et dépôt conjoint d'un composé peu volatil sur le pied du flanc de la couche de réserve réalisant cette passivation, en milieu de gravure à activité polymérisante très faible, l'atmosphère de gravure consistant en du chlore et/ou un composé chloré et/ou fluoré dilué dans un gaz neutre en l'absence de chaîne carbonée, soit en l'absence de dépôt de composés chloro- ou fluorocarbonés, et à transférer simultanément ce profilage de la couche de réserve formant masque dans la région de la couche à graver par gravure anisotrope de la couche de réserve formant masque, soumise à l'érosion non isotrope, le rapport de la tangente de l'angle instantané du pied de la couche de réserve formant masque et de l'angle du flanc de gravure de la couche à graver (1) étant proportionnel au rapport de la vitesse apparente de gravure vcg de la couche à graver (1) et de la vitesse de gravure vcr de la couche de réserve formant masque, diminuée d'un terme égal au produit de la vitesse de dépôt isotrope D de la couche de passivation multipliée par la tangente de l'angle instantané du pied de la couche de réserve formant masque, ce rapport vérifiant la relation :

V. Le requérant a basé ses requêtes sur les arguments suivants :

Exposé de l'invention et clarté des revendications

L'invention concerne un procédé de gravure en pente d'une couche d'un circuit intégré, cette couche étant revêtue d'une couche de réserve formant masque et présentant un flanc de gravure pendant l'opération de gravure. Ce procédé consiste à effectuer conjointement, pendant le processus de gravure, une passivation du flanc de gravure de la couche à graver et une érosion. Cette érosion concerne la couche de réserve formant masque et la couche à graver, et ladite passivation résulte de cette érosion.

L'érosion de la couche de réserve formant masque est effectuée en vue de contrôler la pente du flanc de gravure de la couche à graver, et il s'agit d'une érosion "non isotrope" qui est définie en ce qu'elle consiste à réaliser un profilage à partir d'un facettage par gravure anisotrope de ladite couche de réserve formant masque au pied du flanc de cette couche de réserve ; cette érosion "non isotrope" est effectuée par un processus de gravure ionique réactive, par gravure anisotrope et dépôt conjoint d'un composé peu volatil sur le pied du flanc de la couche de réserve réalisant cette passivation ; le milieu de gravure est à activité polymérisante très faible, l'atmosphère de gravure consistant en du chlore et/ou un composé chloré et/ou fluoré dilué dans un gaz neutre en l'absence de chaîne carbonée, c'est-à-dire en l'absence de dépôt de composés chloro- ou fluorocarbonés.

Le profilage de la couche de réserve formant masque est transféré simultanément dans la région de la couche à graver. L'angle du flanc de gravure de la couche à graver est donné par une relation faisant intervenir des caractéristiques de la couche à graver, de la réserve formant masque, et du processus d'érosion, c'est-à-dire, la vitesse apparente de gravure vcg de la couche à graver, la vitesse de gravure vcr de la couche de réserve formant masque, la vitesse de dépôt isotrope D de la couche de passivation et l'angle instantané du pied de la couche de réserve formant masque. L'ensemble de ces caractéristiques permet de déterminer et de contrôler l'angle de la pente du flanc dans la couche à graver. Tout photorésist disponible peut être utilisé, à condition d'adapter les caractéristiques de la formule présentée dans la revendication.

Le procédé de l'invention est donc clairement et suffisamment exposé par l'ensemble des informations dans la demande. La revendication 1, en particulier, définit clairement ledit procédé. Par conséquent, les exigences de suffisance d'exposé et de clarté selon les articles 83. et 84 CBE, respectivement, sont satisfaites.

Activité inventive

L'invention a pour objet la mise en oeuvre d'un procédé de contrôle du profil de gravure d'une couche d'un circuit intégré permettant d'éviter, d'une part, des défauts dans la définition des niveaux desdites couches dûs à un environnement chimique de gravure trop polymérisé, comportant trop de chaînes carbonées, comme dans le document D1, qui emploie du CCl4 pour l'atmosphère de gravure, et, d'autre part, des défauts dans la définition des dimensions des éléments produits par ladite gravure dûs à des opérations préalables à haute température, telles que le fluage, qui résultent en un étalement de la couche de réserve, comme c'est le cas dans les documents D6 et D7.

L'invention résout ces problèmes par une conjonction d'opérations, avec profilage et facettage de la couche de réserve par érosion anisotrope dans des atmosphères de gravure sans chaîne carbonée et dépôt conjoint sur les flancs de la couche à graver du résultat de cette érosion pour servir de passivation, ceci permettant une érosion non isotrope de ladite couche à graver. Pour l'homme du métier, une telle combinaison n'est pas évidente au vu de l'art antérieur.

Remboursement de la taxe de recours

Contrairement à ce qui est déclaré dans le compte-rendu de la procédure orale du 4 juin 1996, le requérant n'avait pas renoncé à soumettre une revendication auxiliaire au moment où la Division d'examen s'est retirée pour une délibération concernant le texte parvenu à l'OEB le 2 mai 1996. Auparavant, le requérant avait indiqué à la Division d'examen qu'il pourrait considérer une revendication basée sur une combinaison des revendications 1 et 6. D'ailleurs, il avait préparé une telle requête, mais voulait auparavant défendre le texte déposé le 2 mai 1996. Le requérant, à qui il avait été affirmé qu'il pourrait présenter une nouvelle requête, n'a donc pas eu la possibilité de défendre sa nouvelle requête, en d'autres mots, son droit d'être entendu n'a pas été respecté. De plus, en raison du caractère abusif de la conduite de la procédure orale par la Division d'examen, le principe de la bonne foi qui doit présider aux relations entre l'OEB et les utilisateurs de ses services n'a pas été respecté.

Pour ces raisons, le remboursement de la taxe de recours est justifié.

1. Le recours est recevable.

2. Admissibilité des modifications

Une modification importante de la revendication 1 concerne la caractéristique nouvelle précisant que c'est pendant le processus de gravure que les opérations d'érosion et de dépôt sont effectuées conjointement. Cette restriction, en combinaison avec la modification concernant le profilage et le facettage par gravure anisotrope, peut être déduite de l'ensemble de la demande initiale ; elle ressort aussi des informations (voir page 1, ligne 32 à page 2, ligne 2) selon lesquelles, dans l'art antérieur, des opérations de traitement de la réserve formant masque visant à adapter son profil préalablement au processus de gravure proprement dit, en particulier par traitement thermique tel que le fluage de la réserve, entraînaient des désavantages pour la définition d'éléments de faibles dimensions.

Les autres modifications, en particulier la restriction à certaines atmosphères de gravure ne comportant pas de chaîne carbonée, et la formule qui permet de contrôler la pente de la couche à graver à partir de l'angle de la couche de réserve formant masque et de divers paramètres liés à ladite atmosphère et aux matériaux employés pour la couche à graver et la réserve formant masque, sont basées sur le contenu de la demande initiale.

Par conséquent, la Chambre est d'avis que la présente demande satisfait aux conditions de l'article 123(2) CBE, selon lequel une demande de brevet européen ne peut être modifiée de manière que son objet s'étende au-delà du contenu de la demande telle qu'elle a été déposée.

De plus, la requête en correction d'une erreur matérielle dans la description, à la page 14, ligne 1, dans laquelle il est nécessaire à l'évidence de lire : 60. sccm N2 en lieu et place de 60 sccm Cl2, a été acceptée car, d'une part, un autre courant de Cl2 est déjà mentionné sur la même ligne pour le même mélange gazeux et, d'autre part, au vu en particulier de la liste des exemples de réalisation de l'invention mentionnés dans la description (voir page 9, lignes 13 à 20) et comportant un mélange gazeux de SiCl4, de Cl2 et d'un composé supplémentaire à deux atomes par molécule, seul l'azote N2 convient. La page 14 a été corrigée en conséquence.

3. Exposé de l'invention

Selon la présente demande (voir page 11, lignes 21 à 25), la passivation du flanc de gravure de la couche à graver (1) est effectuée du fait de la présence des produits d'érosion de la couche (2) de réserve formant masque. Pour cette raison, la nature de ladite réserve est importante. Le requérant a argumenté de façon convaincante sur ce point :

Tout photorésist disponible sur le marché peut être utilisé. La formule reliant les angles et , ainsi que vcr (vitesse de gravure de la couche à graver), vcg (vitesse de gravure de la couche de réserve formant masque) et D (vitesse de dépôt isotrope de la couche de passivation), permettent d'effectuer le contrôle de pente désiré ; en d'autres mots, en fonction des angles souhaités et des matériaux employés, par exemple du photorésist particulier utilisé, il est possible de sélectionner les conditions d'érosion et d'effectuer de façon contrôlée la gravure en pente d'une couche à graver d'un circuit intégré. Certes, on peut remarquer que de tels photorésists produiront des dépôts carbonés. Cependant, par le choix d'atmosphères ne contenant pas de chaîne carbonée, on élimine une partie importante des dépôts carbonés et des défauts résultant des dépôts de polymères mentionnés dans la demande (voir page 2, ligne 8 à page 3, ligne 14).

De plus, la Chambre considère que, suite aux modifications apportées par le requérant, les termes tels que "érosion non isotrope" et "dépôt d'un composé sur le pied du flanc d'une résine" sont suffisamment et clairement définis pour que l'homme du métier sache mettre en pratique le procédé.

Par conséquent, la Chambre est d'avis que la présente demande satisfait à l'exigence de l'article 83 CBE, selon lequel l'invention doit être exposée dans la demande de brevet européen de façon suffisamment claire et complète pour qu'un homme du métier puisse la réaliser.

4. Clarté des revendications

Suite aux modifications apportées par le requérant, la revendication 1 ne comporte plus d'expression du type "ce qui permet de contrôler la pente (pe) du flanc de gravure de ladite couche à graver", c'est-à-dire une caractéristique fonctionnelle définie par un résultat à atteindre mais ne spécifiant ni comment est obtenu ce résultat, ni quelles caractéristiques sont à mettre en oeuvre pour obtenir un flanc de gravure en pente de la couche à graver pré-sélectionné. Des caractéristiques telles que le profilage et facettage de la couche de réserve formant masque ou la formule donnant l'angle du flanc de gravure de la couche à graver en fonction de données liées aux différents matériaux et gaz et conditions d'érosion, définissent aussi bien les termes particuliers tels que "érosion non isotrope" que l'ensemble du procédé de la revendication.

De plus, comme on le verra ci-après, les caractéristiques essentielles distinguant l'invention de l'art connu sont comprises dans la revendication 1, et ceci est nécessaire pour la clarté (cf. la décision T 1055/92, JO OEB 1995, 214, en particulier le point 5 des motifs).

Par conséquent, de l'avis de la Chambre, la revendication 1 satisfait à l'exigence de clarté de l'article 84 CBE.

L'unique revendication dépendante précise entre autre l'angle d'incidence de l'érosion ionique par rapport à la couche de réserve. Elle satisfait donc aussi à l'exigence de clarté.

5. Nouveauté

L'objet de la présente revendication 1 n'est pas compris dans l'état de la technique et est donc nouveau au sens de l'article 54 CBE.

6. Activité inventive

6.1. Il convient de remarquer que la Chambre, tenant compte des différents points de départ de l'art antérieur possibles pour l'examen de l'activité inventive, a suggéré qu'un texte de la revendication 1 en une seule partie soit adopté, car le cas d'espèce le justifie (règle 29(1) CBE).

6.2. D'une part, il est connu du document D1 (voir colonne 1, ligne 64 à colonne 2, ligne 36 ; figure 3) un procédé de gravure en pente d'une couche (22) d'un circuit intégré, cette couche étant revêtue d'une couche de réserve (23) formant masque et présentant un flanc de gravure pendant l'opération de gravure ; une formule reliant les angles de gravure de la couche à graver et de la couche de réserve formant masque est aussi indiquée. Cependant, contrairement au présent procédé, le procédé du document D1 est effectué dans un milieu de gravure qui n'est pas à activité polymérisante très faible ; en effet, l'atmosphère de gravure consiste en CCl4 ou un autre gaz contenant du chlore et du carbone, donc en présence de chaîne carbonée, ce qui peut entraîner le dépôt de composés chlorocarbonés. Or, comme souligné dans la demande (voir page 3, lignes 3 à 14) et comme argumenté de façon convaincante par le requérant, de tels dépôts sont défavorables car ils entraînent la génération de particules et donc de défauts dans la définition du niveau de la couche à graver.

D'autre part, il est connu du document D6 (voir colonne 1, ligne 60 à colonne 2, ligne 46) un procédé de gravure en pente d'une couche d'un circuit intégré, cette couche étant revêtue d'une couche de réserve formant masque et présentant un flanc de gravure pendant l'opération de gravure. Ce procédé est effectué dans une atmosphère de SiCl4, de chlore et d'azote. Cependant, contrairement au présent procédé, ce procédé connu comporte, avant l'érosion proprement dite, une étape préalable au cours de laquelle le photorésist est soumis à un traitement à température élevée, par exemple 150 C, afin de profiler ledit photorésist. Or, selon la présente demande (voir page 1, ligne 25 à page 2, ligne 2 ; figure 1b), un tel fluage entraîne un désavantage car il n'est pas compatible avec un procédé à utiliser dans la technique des circuits intégrés lorsque l'on veut obtenir des éléments ayant des dimensions de l'ordre de grandeur du micromètre ou même inférieures au micromètre.

Enfin, du document D7 (voir page L1070, le résumé et colonne gauche, second alinéa à colonne droite, avant-dernier alinéa) il est connu un procédé de gravure en pente d'une couche, cette couche étant revêtue d'une couche de réserve formant masque et présentant un flanc de gravure pendant l'opération de gravure. Il est crédible que, selon l'argument du requérant, le traitement thermique à 120 C après l'exposition et le développement de cette réserve et celui à au moins 250 C pendant l'érosion peut résulter en un fluage, c'est-à-dire en des défauts semblables à ceux mentionnés ci-dessus en référence au document D6.

Or, le procédé de la présente demande (voir page 3, ligne 15 à page 4, ligne 1) a pour but d'éviter les défauts mentionnés ci-dessus afin de permettre une exploitation industrielle.

Les autres documents de l'art antérieur sont moins pertinents.

6.3. Par conséquent, pour un homme du métier, l'art antérieur ne suggère pas de façon évidente la combinaison de mesures du procédé de la revendication 1, et ce procédé implique donc une activité inventive au sens de l'article 56 CBE.

En conséquence, l'objet de la revendication 1 est brevetable (article 52(1) CBE).

L'objet de la revendication dépendante 2, c'est-à-dire l'objet de l'unique autre revendication de la présente demande, est aussi brevetable car il correspond à un exemple de réalisation particulier.

Par conséquent, un brevet peut être délivré sur cette base (art. 97(2) CBE).

7. Remboursement de la taxe de recours

7.1. Les arguments du requérant concernant le remboursement de la taxe de recours sont présentés dans la première partie de la présente décision (voir section V). Ils ne peuvent convaincre la Chambre pour les raisons suivantes :

Tout d'abord, il ressort aussi bien du compte-rendu officiel établi par la Division d'examen et communiqué au requérant avec la décision contestée que du compte-rendu élaboré par le mandataire du requérant que, au moment où la Division d'examen s'est retirée pour délibérer, la seule requête déposée par le requérant était celle basée sur la revendication 1 reçue le 2. mai 1996. Ladite revendication 1 était celle déposée par le requérant suite à sa convocation le 18. janvier 1996 à ladite procédure orale par la Division d'examen. Il ressort des deux versions des faits que, avant la délibération, la Division d'examen a communiqué au demandeur des motifs qui s'opposaient à la délivrance d'un brevet, entre autres le manque de clarté de ladite revendication en particulier en raison de l'utilisation de formulations vagues, par exemple l'érosion non isotrope qui avait déjà été critiquée auparavant, et que le requérant a été en mesure de prendre position sur ce motif.

Par ailleurs, il ressort également des deux versions des faits que, suite à ladite délibération, le mandataire du requérant a tenté de reprendre la discussion sur le même texte de la revendication 1, en particulier sur les motifs du rejet. Or, le motif du rejet, c'est-à-dire le manque de clarté au titre de l'article 84 CBE, lui avait été indiqué par la Division d'examen et avait été discuté avant la délibération.

Par conséquent, l'exigence de l'article 113(1) CBE, selon lequel les décisions de l'OEB ne peuvent être fondées que sur des motifs au sujet desquels les parties ont pu prendre position, est satisfaite en tout cas en ce qui concerne la revendication 1 déposée le 2. mai 1996.

Quant à une éventuelle requête subsidiaire, elle ne peut donner lieu à une telle exigence puisqu'il n'a pas été contesté qu'elle n'avait pas été déposée.

7.2. Par ailleurs, concernant la bonne foi dans les relations entre l'OEB et le requérant :

Il ressort de l'étude de l'ensemble des pièces du dossier d'examen, et en particulier de la première partie de la décision contestée, que ladite procédure d'examen a donné lieu à trois notifications écrites ainsi qu'à un entretien téléphonique à l'initiative de la Division d'examen dont le compte-rendu a été communiqué au requérant ; ensuite, la convocation à la procédure orale, à l'initiative de la Division d'examen, était accompagnée d'une annexe sous forme de notification dans laquelle des objections étaient formulées et il était précisé que, conformément à la règle 71bis CBE, le délai pour la soumission de nouveaux documents était fixé à un mois avant la procédure orale du 4 juin 1996, c'est-à-dire avant le 4 mai 1996. Le 2. mai 1996, le requérant a déposé la nouvelle revendication 1 sur la base de laquelle la décision contestée a été prise.

Par conséquent, le requérant a été largement en mesure de déposer de nouvelles requêtes tenant compte des objections de la Division d'examen, dont certaines, en particulier concernant le manque de clarté, ont été répétées pendant la procédure d'examen.

Certes, on ne peut exclure que, dans ladite procédure orale, au cours des échanges entre les différents membres de la Division d'examen et le requérant, il y ait eu un malentendu en ce qui concerne l'ultime possibilité de déposer de nouvelles requêtes. On ne peut exclure non plus qu'il y ait eu un malentendu en ce qui concerne le caractère définitif de la délibération concernant ladite revendication reçue le 2 mai 1996. Cependant, en décidant de ne pas déposer de requêtes subsidiaires avant le 4 mai 1996, comme cela était précisé dans l'annexe à la convocation avec référence à la règle 71bis CBE, le demandeur s'exposait déjà à voir rejeter toute nouvelle requête comme non admissible. Donc, sans préjuger du résultat qu'aurait entraîné du point de vue de leur admissibilité le dépôt de nouvelles requêtes sous forme de requêtes subsidiaires pendant la procédure orale avant la délibération de la Division d'examen, le requérant, en ne déposant pas de requête subsidiaire à ce moment, ne pouvait qu'accroître le risque d'un rejet sur la base de la seule revendication 1 valablement déposée et déjà largement critiquée.

Le requérant a déclaré devant la Chambre de recours qu'une telle requête subsidiaire était prête et aurait pu être présentée à la Division d'examen. Cependant, des relations des faits en présence, il n'est pas possible de conclure que, avant la délibération, la Division d'examen pouvait déterminer qu'une telle requête subsidiaire était effectivement rédigée et prête. En effet, il ressort des deux versions que, à ce moment, la Division d'examen n'avait été informée que de la demande de voir considérer une revendication reprenant les caractéristiques de la revendication 6, en particulier la formule donnant l'angle du flanc de gravure de la couche à graver en fonction d'autres caractéristiques du procédé. La Division d'examen n'avait pas à sa disposition avant la délibération une requête subsidiaire dûment déposée, mais une évocation d'une possibilité d'une telle requête.

Dans ces conditions, au vu de l'ensemble des pièces de la procédure d'examen, il n'y a pas d'élément montrant, de la part de la Division d'examen, une volonté de surprendre la bonne foi du demandeur.

7.3. Pour ces raisons, la Chambre est d'avis que la procédure d'examen n'a pas été entachée de vice substantiel de procédure. Par conséquent, les conditions de la règle 67 CBE, qui prévoient un remboursement de la taxe de recours si le remboursement est équitable en raison d'un vice substantiel de procédure, ne sont pas satisfaites.

Dispositif

DISPOSITIF

Par ces motifs, il et statué comme suit :

1. La décision contestée est annulée.

2. L'affaire est renvoyée à l'instance du premier degré afin de délivrer un brevet sur la base des documents suivants produits à la procédure orale :

Revendications : n 1 et 2 ; et Description : pages 1, 2, 2a et 3 à 15, Dessins : feuilles n 1/4 à 4/4.

3. La requête en remboursement de la taxe de recours est rejetée.

Footer - Service & support
  • Soutien
    • Mises à jour du site Internet
    • Disponibilité de services en ligne
    • FAQ
    • Publications
    • Notifications relatives aux procédures
    • Contact
    • Centre d'abonnement
    • Jours fériés
    • Glossaire
Footer - More links
  • Centre de presse
  • Emploi et carrière
  • Single Access Portal
  • Achats
  • Chambres de recours
Facebook
European Patent Office
EPO Jobs
Instagram
EuropeanPatentOffice
Linkedin
European Patent Office
EPO Jobs
EPO Procurement
X (formerly Twitter)
EPOorg
EPOjobs
Youtube
TheEPO
Footer
  • Adresse bibliographique
  • Conditions d’utilisation
  • Protection des données
  • Accessibilité